Категория
Информатика
Тип
контрольная работа
Страницы
11 стр.
Дата
29.05.2013
Формат файла
.html — Html-документ
Архив
641168.zip — 7.48 kb
  • texnologicheskij-process-izgotovlenija-platy-integralnoj-mikrosxemy-filtra_641168_1.html — 30 Kb
  • Readme_docus.me.txt — 125 Bytes
Оцените работу
Хорошо  или  Плохо



Текст работы

Для R2:

?=5,20

?= 5,20/3= 1,73


Pr=Ф*(5/ ?)- Ф*(-5/ ?)= Ф*(5/1,73)- Ф*(-5/1,73)= Ф*(2,88)- Ф*(-2,88)=0,9974-0,026=0,9948


Пр= Pr?100%=0,9948?100%=99,48%

Допуск для R2 равен 5%, а выходной параметр превышает этот показатель, следовательно, процент выхода годных для R2 = 99,48


Пр= ПPr?100%=0,9791?0.9948?100%=97,40%

Процент выхода годных изделий приблизительно будет равен 97,40%


Список литературы


1. Парфенов О.Д. Технология микросхем. Москва, Высшая школа,1986г.

. Технология интегральных схем частого применения. Под ред. Алимовой Р.А., Казань 1979г.

. Валитова Ф. К. Технологические процессы микроэлектроники. Пособие по курсовому проектированию, Казань 2001г.

. Справочник. Технология тонких плёнок. Под ред. Л. Майссесела Р. Гленга. М. 1977 г.<</p>




Ваше мнение



CAPTCHA