Категория
История
Тип
доклад
Страницы
2 стр.
Дата
23.03.2013
Формат файла
.html — Html-документ
Архив
251226.zip — 2.48 kb
  • otpajannye-tea-lazery-uf-i-blizhnego-ik-diapazonov-dlja-primenenij-v-lazernoj-ximii-i-diag_251226_1.html — 5.22 Kb
  • Readme_docus.me.txt — 125 Bytes
Оцените работу
Хорошо  или  Плохо


Текст работы

Oтпаянные ТЕА-лазеры УФ- и ближнего ИК-диапазонов для применений в лазерной химии и
диагностике

Многие проблемы лазерной химии, химического анализа, лазерных микротехнологий и экологии в настоящее время могут быть успешно решены с
применением ТЕА-лазеров, работающих в УФ- и ближней ИК-областях спектра. Одним из главных требований, предъявляемых к такого рода источникам излучения,
является обеспечение достаточно высокого ресурса. Среди множества активных сред, обеспечивающих эффективную генерацию лазерного излучения в УФ и ближней
ИК-областях спектра, наиболее приемлемыми с этой точки зрения являются молекулярный азот и смеси инертных газов, не подверженных химическим
превращениям в плазме газового разряда. Основным недостатком ТЕА-лазеров на смесях этих газов являются низкие частоты повторения импульсов и уровни средней
мощности излучения.

В настоящей работе приводятся результаты систематических исследований, направленных на создание отпаянных вариантов
ТЕА-лазеров на смесях N2:He (l =337 нм) и Ar:He, Kr:He, Xe:He (l =1-5 мкм) при рабочих давлениях до 1.5 Атм с повышенными значениями средней
мощности излучения.

Исследования проводились с двумя типами ТЕА-лазеров:

1. Малогабаритными отпаянными ТЕА-лазерами с поперечной прокачкой газовых смесей "электрическим ветром" и
возбуждаемыми активными объемами Va =18*0.8*0.8 см3, Va =18*1.2*0.4 см3, Va =20*1.2*0.3 см3 и Va
=22*0.8*0.3 см3. В качестве оболочек активных элементов применялась керамика на основе окиси алюминия (22ХС). Частоты повторения импульсов
составляли 20-120 Гц.

2. ТЕА-лазеры со скоростной прокачкой рабочих смесей ( Vпрок 20 мкм ), термическими деформациями электродов, применением
предионизаторов, вызывающих температурные градиенты в газовом потоке или на поверхности основных электродов. Основной причиной образования
"микронеоднородносте" является наличие на разрядном промежутке после протекания тока накачки напряжений рассогласования.



Ваше мнение



CAPTCHA